PROCEDEU DE PASIVARE A SUPRAFEŢELOR SEMICONDUCTOARE DIN COMPUŞI III-V ŞI OBŢINEREA UNEI STRUCTURI SENZITIVE TIP GACL-SBS/GASB
Prețul nu e vizibil în cazul acestui pachet
Atribuire
Nr.: RO131881
Data: 30.05.2017
GHIŢĂ RODICA [RO]
FRUMOSU FLORICA [RO]
LOGOFĂTU CONSTANTIN [RO]
PREDOI DANIELA [RO]
NEGRILĂ CONSTANTIN-CĂTĂLIN [RO]
TRUPINĂ LUCIAN [RO]
Descriere:
Invenţia se referă la un procedeu de pasivare a suprafeţelor semiconductorilor din compuşi grupele III-V cu compuşi ai sulfului, cu aplicaţie pentru dispozitive tip Schottky, destinate evaluării activităţii microbiene. Metoda conform invenţiei constă în aceea că un semiconductor de tip GaSb sau GaAs este introdus într-o soluţie de tiol alifatic dizolvat în alcool etilic sau într-o soluţie de sulfură de clor dizolvată în tetraclorură de carbon la temperatura camerei, rezultând o suprafaţă de semiconductor cu densitate redusă, de stări de suprafaţă compatibile cu procesări tehnologice ulterioare.