PROCEDEU DE PASIVARE A SUPRAFEŢELOR SEMICONDUCTOARE DIN COMPUŞI III-V ŞI OBŢINEREA UNEI STRUCTURI SENZITIVE TIP GACL-SBS/GASB

Prețul nu e vizibil în cazul acestui pachet

Interes:

Atribuire

Informații publicare:

Nr.: RO131881

Data: 30.05.2017

Inventator(i):

GHIŢĂ RODICA [RO]

FRUMOSU FLORICA [RO]

LOGOFĂTU CONSTANTIN [RO]

PREDOI DANIELA [RO]

NEGRILĂ CONSTANTIN-CĂTĂLIN [RO]

TRUPINĂ LUCIAN [RO]

Aplicant(i):
INST NAŢIONAL DE CERCETARE-DEZVOLTARE PENTRU FIZICA MAT (INCDFM) [RO]
Clasificare:
Clasificare internationala (IPC):
C23C14/22

Clasificare comuna (CPC):
Informații aplicație:
Nr.: RO20150000793
Data: 05.11.2015
Număr/numere prioritar(e):
RO20150000793 05.11.2015
Brevete asociate:
RO131881
BOPI:
Descriere:

Invenţia se referă la un procedeu de pasivare a suprafeţelor semiconductorilor din compuşi grupele III-V cu compuşi ai sulfului, cu aplicaţie pentru dispozitive tip Schottky, destinate evaluării activităţii microbiene. Metoda conform invenţiei constă în aceea că un semiconductor de tip GaSb sau GaAs este introdus într-o soluţie de tiol alifatic dizolvat în alcool etilic sau într-o soluţie de sulfură de clor dizolvată în tetraclorură de carbon la temperatura camerei, rezultând o suprafaţă de semiconductor cu densitate redusă, de stări de suprafaţă compatibile cu procesări tehnologice ulterioare.