PROCEDEU DE PASIVARE A SUPRAFEŢELOR SEMICONDUCTOARE DIN COMPUŞI III-V ŞI OBŢINEREA UNEI STRUCTURI SENZITIVE TIP GACL-SBS/GASB

Price not visible for this package

Interest:

Assignment

Publication info:

No.: RO131881

Date: 30.05.2017

Inventor(s):

GHIŢĂ RODICA [RO]

FRUMOSU FLORICA [RO]

LOGOFĂTU CONSTANTIN [RO]

PREDOI DANIELA [RO]

NEGRILĂ CONSTANTIN-CĂTĂLIN [RO]

TRUPINĂ LUCIAN [RO]

Applicant(s):
INST NAŢIONAL DE CERCETARE-DEZVOLTARE PENTRU FIZICA MAT (INCDFM) [RO]
Classification:
International patent classification (IPC):
C23C14/22

Cooperative patent classification (CPC):
Application info:
No.: RO20150000793
Date: 05.11.2015
Priority number(s):
RO20150000793 05.11.2015
Related patents:
RO131881
BOPI:
Description:

Invenţia se referă la un procedeu de pasivare a suprafeţelor semiconductorilor din compuşi grupele III-V cu compuşi ai sulfului, cu aplicaţie pentru dispozitive tip Schottky, destinate evaluării activităţii microbiene. Metoda conform invenţiei constă în aceea că un semiconductor de tip GaSb sau GaAs este introdus într-o soluţie de tiol alifatic dizolvat în alcool etilic sau într-o soluţie de sulfură de clor dizolvată în tetraclorură de carbon la temperatura camerei, rezultând o suprafaţă de semiconductor cu densitate redusă, de stări de suprafaţă compatibile cu procesări tehnologice ulterioare.