ŢINTE DE PULVERIZARE ŞI STRATURI SUBŢIRI DIN NANOPULBERI ANTIMICROBIENE DE OXID DE ZINC DOPATE CU ARGINT ŞI PROCEDEU DE OBŢINERE

Prețul nu e vizibil în cazul acestui pachet

Interes:

Atribuire

Informații publicare:

Nr.: RO131727

Data: 30.03.2017

Inventator(i):

LUNGU MAGDALENA-VALENTINA [RO]

PĂTROI DELIA [RO]

GRIGORE FLORENTINA [RO]

LUCACI MARIANA [RO]

TĂLPEANU DORINEL [RO]

TSAKIRIS VIOLETA [RO]

MITREA SORINA ADRIANA [RO]

BRĂTULESCU ALEXANDRA [RO]

CIRSTEA CRISTIANA DIANA [RO]

STANCU NICOLAE [RO]

MARINESCU VIRGIL [RO]

SOBEŢKII ARCADIE [RO]

SOBEŢKII ARCADII [RO]

CHIFIRIUC MARIANA-CARMEN [RO]

POPA MARCELA [RO]

Aplicant(i):
INST NAŢIONAL DE CERCETARE-DEZVOLTARE PENTRU ING ELECTRICĂ ICPE-CA [RO]
Clasificare:
Clasificare internationala (IPC):
B82B3/00

Clasificare comuna (CPC):
Informații aplicație:
Nr.: RO20150000605
Data: 20.08.2015
Număr/numere prioritar(e):
RO20150000605 20.08.2015
Brevete asociate:
RO131727
BOPI:
Descriere:

Invenţia se referă la ţinte de pulverizare, un procedeu de obţinere, şi utilizarea acestora într-un procedeu de obţinere a unor straturi subţiri nanostructurate antimicrobiene pe substrat de oţel, pentru aplicaţii medicale. Ţintele, conform invenţiei, sunt constituite din nanopulberi antimicrobiene de ZnO, cu structură cristalină hexagonală şi dimensiune medie de cristalit de 67 nm, dopat cu până la 2,8% nanoparticule sferice de Ag, cu un diametrul mediu de 10...20 nm. Procedeul conform invenţiei constă în sinterizarea în plasmă de scânteie în vid timp de 5...30 min la temperatura de 600...750°C, la o presiune de presare de 30...50 MPa, rezultând ţintele de pulverizare sub formă de discuri cu un diametru de 50,8±0,1 mm, cu o densitate de 4,8...5,5 g/cmc, o microduritate Vickers HV2/15 de 102...280, un modul Young de 30...87 GPa. Procedeul, conform invenţiei, constă în aceea că ţintele sunt pulverizate cu magnetron în radiofrecvenţă pe substrat de oţel inox, într-o incintă de pulverizare cu presiunea vidului de start de 10Pa, şi presiunea de lucru de 2...4 Pa, la puterea de 50 W, cu rată de creştere a puterii de 10 W/min până la puterea de 100...300 W, care se menţine timp de 30...60 min la distanţa dintre ţintă şi substrat de 10 cm, rezultând straturi nanostructurate antimicrobiene având o grosime de 200...1000 nm.