SENZOR CHEMIREZISTIV DE TIP COMUTATOR PENTRU DETECŢIA UMIDITĂŢII

Prețul nu e vizibil în cazul acestui pachet

Interes:

Atribuire

Informații publicare:

Nr.: RO134694

Data: 29.01.2021

Inventator(i):

ŞERBAN BOGDAN CĂTĂLIN [RO]

BUIU OCTAVIAN [RO]

COBIANU CORNEL [RO]

AVRAMESCU VIOREL MARIAN [RO]

DUMBRĂVESCU NICULAE [RO]

MARINESCU MARIA ROXANA [RO]

Aplicant(i):
INSTITUTUL NAT DE CERCETARE DEZVOLTARE PENTRU MICROTEHNOLOGIE IMT BUCURESTI [RO]
Clasificare:
Clasificare internationala (IPC):
C01B32/15

Clasificare comuna (CPC):
Informații aplicație:
Nr.: RO20190000442
Data: 22.07.2019
Număr/numere prioritar(e):
RO20190000442 22.07.2019
BOPI:
Descriere:

Invenţia se referă la un senzor chemirezistiv tip " comutator " pentru monitorizarea umidităţii relative, utilizat în multiple domenii de activitate casnică şi industrială, în birouri şi apartamente, în industria textilă şi a hârtiei, în industria medicală respectiv la incubatoare şi echipamente de sterilizare, în agricultură la monitorizarea umidităţii solului, la sere la silozuri, în industria farmaceutică, în industria auto, în meteorologie, în industria chimică şi electronică, şi în alte domenii asemenea. Senzorul chemirezistiv conform invenţiei este constituit din straturi senzitive nanocompozite de tip copolimer tribloc polietilenglicol - polipropilenglicol - polietilenglicol/ nanohornuri carbonice oxidate având procentul masic în compoziţia finală a stratului senzitiv cuprins între0,1...20%, nanohornurile carbonice oxidate fiind sintetizate prin tratarea nanohornurilor carbonice cu acid azotic 3M la reflux, timp de 24 ore, în plasmă de oxigen sau în plasmă de apă urmată de oxidarea nanohornurilor carbonice cu apă oxigenată, straturile senzitive sunt depuse pe un substrat dielectric care poate fi Si/SiO2, PET sau Kapton având o grosime cuprinsă între 50 μm şi 5 mm, electrozii utilizaţi pot fi din acelaşi material Al, Cr, Cu sau Au sau din materiale diferite, pot avea o configuraţie liniară sau interdigitată, şi se depun pe suprafaţa substratului dielectric prin printare directă, pulverizare catodică sau prin evaporare, depunerea stratului senzitiv pe substratul de Si/SiO2 cu electrozi liniari sau interdigitaţi realizându-se prin metodele " spin coating " sau" drop casting ".