SISTEM DE ELECTROZI FLEXIBILI, ATAŞABILI NERVILOR, PENTRU DETECTAREA/FORMAREA IMPULSURILOR ŞI TEHNOLOGIA DE FABRICAŢIE A ACESTORA

Prețul nu e vizibil în cazul acestui pachet

Interes:

Atribuire

Informații publicare:

Nr.: RO135103

Data: 30.07.2021

Inventator(i):

MOLDOVAN CARMEN AURA [RO]

ION MARIAN [RO]

IONESCU OCTAVIAN [RO]

FRANŢI EDUARD DAN [RO]

DASCĂLU MONICA [RO]

DINULESCU SILVIU [RO]

LASCĂR IOAN [RO]

OPROIU ANA MARIA [RO]

NEAGU TIBERIU PAUL [RO]

CĂRBUNARU VLAD [RO]

Aplicant(i):
INSTITUTUL NAT DE CERCETARE DEZVOLTARE PENTRU MICROTEHNOLOGIE IMT BUCURESTI [RO]
Clasificare:
Clasificare internationala (IPC):
A61N1/04

Clasificare comuna (CPC):
Informații aplicație:
Nr.: RO20210000086
Data: 03.03.2021
Număr/numere prioritar(e):
RO20210000086 03.03.2021
BOPI:
Descriere:

Invenţia se referă la un sistem de electrozi flexibili care pot fi ataşaţi fasciculelor de nervi pentru a prelua sau transmite diferenţa de potenţial înregistrată pe aceştia la transmiterea/ recepţionarea unui stimul. Sistemul conform invenţiei este format din două perechi de electrozi (202 şi 203) cu rol de colectare şi/ sau transmitere a impulsurilor şi un electrod (204) de referinţă cu rolul de a asigura referinţa de potenţial pentru amplificatorul de intrare permiţând astfel colectarea ambelor alternative ale impulsului (104), electrozii (202, 203 şi 204) fiind realizaţi sub forma de filme subţiri din straturi suprapuse de Cr - Au rezultând un strat conductiv cu o grosime de 20 nm Cr şi 200 nm Au. Metoda de fabricaţie conform invenţiei constă în fixarea unei folii (402) de Kapton cu grosimea de 0,2 mm pe un suport (401) de sticlă şi curăţirea foliei (402) de Kapton prin corodare în plasmă de oxigen, peste acesta se depune masca (403) în vederea executării procesului fotolitografic premergător depunerii metalice, iar întreg ansamblul este introdus în instalaţia de depunere de tip magnetron sputtering unde este depus primul strat metalic de Cr cu grosimea de 20 nm urmată de depunerea stratului final din Au cu grosimea de 200 nm, întreg ansamblul fiind supus unei operaţiuni de desprindere chimică a zonei metalice din jurul electrozilor prin introducerea timp de 30 min. într-o baie de ultrasonare folosind acetona încălzită la 50°C, iar pentru izolarea traseelor conductive care intră în contact cu ţesutul din jurul electrozilor, acestea au fost acoperite cu un strat de polidimethil siloxan PDMS prin etalare la o turaţie de 1000 rpm folosind masca (405) care acoperă traseele care nu sunt depuse cu PDMS şi lasă deschise ferestrele pentru depunerea PDMS, produsul obţinut este supus unui tratament termic la 60°C în atmosferă de N2 timp de 120 min., după care se realizează orificiile (205) de sutură şi se îndepărtează marginile prin debitare cu laser.