Descriere:

Invenţia se referă la o compoziţie fotoinsolubilizabilă pe bază de copolimer de tip stiren-dienă-stiren, constituită din 50...95 părţi copolimer în care blocul dienic poate fi poliizopren sau polibutadienă, 5...30 părţi monomeri acrilici, 0,1...10 părţi amestec benzofenonă şi cetonă Michler, 0,1...1 părţi parametoxifenol, 0,1...1 părţi 4,4'-tio-bis(6-terţ-butil-3-metil fenol) şi 0,1...1 părţi periodat de sodiu sau potasiu. Placa fotosensibilă se obţine prin lipirea stratului fotoactiv, obţinut prin prelucrarea compoziţiei, pe un suport poliesteric sau metalic.