Descriere:

Invenţia se referă la o structură antireflectivă, pentru radiaţia electromagnetică. Structuraconform invenţiei are în componenţa sa straturi subţiri, al căror indice de refracţie este cuprins între 1,005 ?i 2,5, aceste straturi subţiri fiind dispuse în a?a fel încât să se obţină o reflectivitate cât mai mică. Grosimea acestor straturi subţiri variază între 10 nm ?i 10microni. Într-o altă variantă, structura antireflectivă este formată dintr-un singur strat subţire nanoporos, nanoporozitatea acestui strat crescând dinspre interfaţa cu substratul spre interfaţa cu mediul exterior.