Descriere:

Invenţia se referă la un procedeu pentru obţinerea unui sistem microfluidic, format din microcanale realizate pe suprafaţa unui substrat, constituit, de preferinţă, din siliciu. Procedeul conform invenţiei cuprinde realizarea unui strat de fotorezist pozitiv, de tip A 24562, etalat prin centrifugare peste un strat de Cr/Ni, Cr/Cu sau Cr/Au, depus prin evaporare în vid, pe un substrat din siliciu oxidat iniţial şi apoi fotolitografiat, după care urmează un tratament termic, timp de până la 20 min, atât după etalare, cât şi după developare, la o temperatură de 80...90°C, după expunerea la UV, prin măştile aferente, şi developarea fotorezistorului, peste geometria astfel obţinută având loc creşterea, prin îngroşare electrochimică în baie, a metalului care urmează să formeze configuraţia de microradiator.