Descriere:

Invenţia se referă la materiale reflectante în extrem ultraviolet, denumit în continuare EUV, sub formă de mono şi multistraturi subţiri, aderente la suportul pe care au fost depuse, utilizate ca oglinzi, la incidenţă razantă, în litografia cu radiaţie EUV. Materialele conform invenţiei sunt sub formă de mono şi multistrat, obţinute prin depunere din faza fizică de vapori, într-o plasmă reactivă, care poate conţine atomi de ioni de titan, zirconiu, azot şi carbon, în funcţie de componenţa specifică a materialului depus, fiind formate din unul, respectiv, două tipuri diferite de straturi subţiri, alternate, cele multistrat fiind compuse dintr-un număr de 30...100 perechi de straturi individuale, atât materialele mono, cât şi cel multistrat având o grosime totală în domeniul 250...800 nm, prezentând proprietăţi reflectante pentru radiaţia EUV cu lungimea de undă cuprinsă în intervalul 10...20 nm, fiind rezistente la eroziune prin bombardament al particulelor energetice, emergente din sursele de radiaţie EUV, şi având proprietăţi microstructurale, mecanice şi tribologice, stabile în timp şi cu variaţia temperaturii substratului, acoperirea substraturilor de oglinzi, pentru radiaţia EUV, cu materialele mono şi multistrat determinând creşterea duratei de viaţă a acestora, în sistemele de litografie EUV.