Descriere:

Invenţia se referă la un dispozitiv destinat obţinerii unei densităţi staţionare de vapori, din materiale cu punct de topire ridicat, dispozitivul fiind utilizat în domeniul depunerilor în vid a unor straturi foarte subţiri, de dimensiuni nanometrice. Dispozitivul conform invenţiei este format dintr-un ansamblu sub formă de tun, montat într-un cadru (4) suport, care este direct conectat cu cadrul (10) suport al unui cilindru (11) Wehnelt, cu rol de focalizare a fasciculului de electroni, în care este fixat, cu un manşon (8), un filament (9) de wolfram, un cadru (10) suport, prevăzut cu o piuliţă (3) pentru reglarea unghiului de bombardament electronic asupra materialului (12) ce se depune, nişte conexiuni (6) pentru alimentarea cu curent a filamentului (9) de wolfram, fixate cu două piuliţe (5) de strângere, izolate de restul sistemului, cu ajutorul unor izolatori (7) ceramici, o tijă (2) de susţinere a întregului ansamblu, prevăzută cu o trecere (1) de curent înalt şi prin care se realizează şi vidarea incintei de lucru, un senzor (13) pentru înregistrarea ratei de depunere şi un ecran (14) de protecţie.