Descriere:

Invenţia se referă la o metodă de tratare a unor substraturi de dispozitive şi implanturi medicale împotriva formării biofilmelor bacteriene sau de îndepărtare a biofilmelor pre-formate sau dezvoltate pe substraturile contaminate cu aplicabilitate în medicina dentară. Metoda, conform invenţiei, constă în generarea unui jet de plasmă cu lungimea de 1...3 mm de la o sursă planară de plasmă de tip DBD (Dielectric Barrier Discharge) cu Ar drept gaz de lucru, la un flux de gaz de 2000 sccm şi o putere de 20 W şi aplicarea prin scanare non-contact a substratului de tip sticlă sau hidroxiapatită,care conţine biofilme microbiene, prin trecerea jetului de plasmă în reprize de 5...10 scanări, la o distanţă de 0,8 mm dintre capătul sursei de plasmă şi substrat, în condiţii atmosferice, rezultând o eficienţă crescută de inactivare /îndepărtare a biofilmelor de pe substrat, prin cuantificarea viabilităţii celulelor incluse în biofilm (UFC/ml) şi evidenţierea celulelor la microscopul electronicde scanare (SEM).