Description:

Invenţia se referă la o plită izotermă, cu funcţionare pe principiul tubului plat, destinată aplicaţiilor care necesită o distribuţie uniformă a temperaturii pe suprafaţa de lucrx75;, de exemplu, în domeniul depunerii straturilor subţiri prin procedeul pulverizării cu piroliză, pentru încălzirea uniformă a substratului şi menţinerea constantă a temperaturii acestuia pe toată perioada depunerii stratului subţire. Plita conform invenţiei este alcătuită dintr-o componentă (1) superioară, fixată etanş de o componentă (2) inferioară, între componenta (1) superioară şi componenta (2) inferioară, în interiorul unei incinte (3) formate, fiind prevăzute nişte coloane (4) de rigidizare, ce asigură menţinereaconstantă a distanţei dintre cele două componente (1 şi 2), pe suprafeţele din interiorul incintei ale celor două componente (1 şi 2), fiecare având prelucrată câte o reţea (a) de canale orizontale sau o reţea (b) de canale verticale, cu rol de a mări suprafaţa specifică de evaporare, respectiv, condensare, componenta (2) inferioară având şi rol de rezervor pentru un fluid (5) de lucru, care realizează un ciclu termodinamic de vaporizare-condensare, după principiul de funcţionare al tubului termic plat, în exterior, la bază sau pe laturi, sau şi la bază şi pe laturi, fiind asamblată o casetă (6) în care se află nişte rezistenţe electrice sau orice altă sursă de căldură controlată prin intermediul unui sistem (7) de comandă şi control automat al temperaturii, ce utilizează nişte senzori (c) de temperatură aflaţi în partea superioară a plitei, componenta (2) inferioară fiind prevăzută, pe oricare dintre pereţii săi laterali, cu ni