Description:

Invenţia se referă la un procedeu de obţinere de straturi subţiri de trioxid de wolfram cu eficienţă fotoelectrochimică ridicată în mediu alcalin ce pot fi integrate în dispozitive folosite pentru generare de energie. Procedeul conform invenţiei constă în depunerea straturilor active fotoelectrochimic pe suporturi conductoare de Pt/Si folosind ablaţia laser pulsată, în cadrul procesului de ablaţie fiind folosite: o ţintă ceramică de WO3, un laser cu NdYag cu o lungime de undă de 1064 nm şi o fluenţă laser de 1.5 J/cm2, un substrat de Pt/Si care este montat pe un sistem de încălzire electric, setat la temperatura de 600°C şi menţinut la o distanţă de 4 cm de ţintă, în timpul procesului de depunere, în camera de ablaţie fiind introdus un amestec de oxigen şi argon, în proporţii egale, la o presiune de 0.1 mbar, iar ţinta este rotită şi translatată evitându-se ablarea unei singure zone şi deteriorarea acesteia. Încălzirea substraturilor este făcută cu o viteză de 20°/min, iar răcirea cu o viteză de 10°/min.