PROCEDEU DE OBŢINERE A FILMELOR SUBŢIRI DIN TITANAT DE BARIU ŞI STRONŢIU DOPAT CU CUPRU PRIN METODA RF-SPUTTERING

Price not visible for this package

Interest:

Assignment

Publication info:

No.: RO131119

Date: 30.05.2016

Inventor(s):

SOBEŢKII ARCADIE [RO]

VISAN MIHAI [RO]

PITICESCU ROXANA MIOARA [RO]

RUŞTI CRISTINA FLORENTINA [RO]

MOTOC ADRIAN MIHAIL [RO]

IONICĂ MARCEL [RO]

ULIERU DUMITRU [RO]

Applicant(s):
INST NAŢIONAL DE CERCETARE DEZVOLTARE PENTRU METALE NEFEROASE ŞI RARE IMNR [RO]
Classification:
International patent classification (IPC):
C04B35/468; C23C14/35

Cooperative patent classification (CPC):
Application info:
No.: RO20150000950
Date: 02.12.2015
Priority number(s):
RO20150000950 02.12.2015
Related patents:
RO131119
BOPI:
Description:

Invenţia se referă la un procedeu de obţinere a filmelor subţiri nanocristaline, pe bază de titanat de bariu şi stronţiu dopat cu 0,1...5% Cu, pe substraturi planare, pe bază de alumină, prevăzute cu electrozi interdigiţi din Cr sau Pt, pentru utilizări în domeniul senzorilor miniaturizaţi de gaze toxice, cum sunt amoniacul şi hidrogenul sulfurat. Procedeul conform invenţiei utilizează ţinte sinterizate din pulberi de titanat de Ba şi Sr dopat, sinterizate hidrotermal, iar depunerea filmelor se realizează prin ablaţie laser sau pulverizare în radio frecvenţă RF - Sputtering la un vid iniţial de 10Pa, cu introducerea de Ar în incintă la o presiune parţială cuprinsă în intervalul 1...4 Pa, puterea de lucru a sursei fiind de 70 W, viteza de rotaţie a caruselului pe care se află substraturile este de 20 rot/min, cu o durată a procesului de depunere de 180 min, obţinându-se în final filme nanostructurate, cu grosimea de 100...400 nm şi rezistenţă electrică ce este cuprinsă în intervalul 500...550 Ω .