CAP DE DEPUNERE COAXIAL CONTINUĂ CU SINTEZA IN SITU DE NP

Price not visible for this package

Interest:

Assignment

Publication info:

No.: RO134387

Date: 28.08.2020

Inventor(s):

POPOVICI ERNEST [RO]

MIHĂILESCU ION [RO]

RISTOSCU CARMEN-GEORGETA [RO]

MIHĂILESCU CRISTIAN [RO]

POPESCU PELIN GIANINA FLORENTINA [RO]

BADICEANU MARIA [RO]

IONIŢĂ ANTON [RO]

GAVRILĂ FLORESCU CARMEN LAVINIA [RO]

NECSOIU TEODOR [RO]

POPOVICI IOAN RĂZVAN [RO]

CHIOIBASU DIANA [RO]

POPESCU ANDREI [RO]

Applicant(s):
INSTITUTUL NAT PENTRU FIZICA LASERILOR PLASMEI SI RADIATIEI INFLPR [RO]
Classification:
International patent classification (IPC):
B01J19/00; B82B1/00

Cooperative patent classification (CPC):
Application info:
No.: RO20190000126
Date: 26.02.2019
Priority number(s):
RO20190000126 26.02.2019
BOPI:
Description:

Invenţia se referă la un cap de depunere coaxial continuă, cu sintezăde nanoparticule, care face posibilă alierea cu nanopulberi a depunerilor de pulberi micrometrice de nanoparticule de SiC, carbon sau nanotuburi de carbon, utilizând laserul de mare putere, invenţia având aplicaţii în domeniul ingineriei aplicate, a ingineriei informaţiilor, a ingineriei industriale, a ingineriei mecatronice, a nanoingineriei, a ingineriei sistemelor şi a altor domenii asemenea. Capul de depunere conform invenţiei este constituit dintr-un modul (MF) de focalizare a fasciculului laser, cu interfaţă electromecanică ce asigură modificarea/ajustarea distanţei (Lf) de focalizare a fasciculului laser colimat şi, în acelaşi timp, poate executa şi deplasarea în plan pe două direcţii pentru alinierea/coaxializarea focarelor utilizate în fenomenul de depunere, luând ca referinţă muchia capului de depunere; un sistem optic a modulului (MF) de focalizare este protejat de o fereastră (PG) de protecţie, a cărui temperatură este controlată cu un senzor de temperatură, fiind spălat şi protejat de un gaz neutru (PGO) aflat sub presiune, care, printr-o diafragmă (AF), ajunge în zona de proces; canalele de injecţie a gazelor sunt determinate de componentele (A, B şi C), prin fereastra (PG) de protecţie putând fi observată alimentarea gazelor precursoare SiH/CH/Ar în canalele de scurgere, are o zonă (PWF) de alimentare cu pulbere micrometrică de depunere, un gaz ( ArSH) protejează şi izolează zona de proces, zona de sinteză a nanoparticulelor (NP) este determinată de focarul injecţiei de gaze precursoare de sinteză a nanoparticulelor (NP), iar zona (ZD) de depunere este determinată de distanţa dintre capul de depunere şi materialul (MB) de bază.