STRUCTURĂ DE ELECTROD CONDUCTOR, ACOPERIRE HIBRIDĂ DE OXID DE GRAFENĂ, NANOCONURI DE CARBON ŞI POLIPIROL ŞI PROCEDEU DE OBŢINERE A UNUI ELECTROD CONDUCTOR

Price not visible for this package

Interest:

Assignment

Publication info:

No.: RO134980

Date: 28.05.2021

Inventor(s):

PRUNĂ ALINA [RO]

Applicant(s):
UNIV POLITEHNICA DIN BUCURESTI [RO]
Classification:
International patent classification (IPC):
D06M11/74

Cooperative patent classification (CPC):
Application info:
No.: RO20190000816
Date: 28.11.2019
Priority number(s):
RO20190000816 28.11.2019
BOPI:
Description:

Invenţia se referă la o structură de electrod conductor realizat prin acoperire hibridă cu oxid de grafenă - nanoconuri de carbon - polimer conductor şi la un procedeu de obţinere a electrodului. Structura conform invenţiei este formată dintr-un substrat non - conductor realizat din material textil din fibră de bumbac, ceramică sau alte materiale asemenea şi o acoperire hibridă alcătuită dintr-un prim strat hibrid de oxid de grafenă - nanoconuri de carbon, unde nanoconurile de carbon au un perete unic şi pot avea o lungime cuprinsă între 30...50 nm şi un diametru variabil cuprins între 5 nm la bază şi 2 nm la vârf şi un al doilea strat de polimer conductor care poate fi polipirol sau alţi polimeri conductori. Procedeul conform invenţiei are următoarele etape: a) pregătirea substratuluinon - conductor în baie de ultrasunete timp de 10 min. prin imersie în acetonă, alcol etilic şi apă distilată, b) pretratarea substratului non - conductor cu un film metalic prin depunere autocatalitică prin pulverizare cu aer comprimat în trei paşi, uscarea la 60°C timp de 1,5 ore după pulverizarea unei cerneli autocatalitice, urmată de activarea catalizatorului la 150...200°C timp de 2...4 ore şi depunerea filmului metalic de Ni - Mo - P prin imersie într-o baie de depunere, c) depunerea unei acoperiri hibride stratificate de oxid de grafenă - nanoconuri de carbon - polipirol în 1...3 seriide imersare a substratului în dispersia hibridă oxid de grafenă - nanoconuri de carbon timp de 15 min. urmată de uscare la 60°C timp de 1 oră, urmată de reducere chimică într-o soluţie de acid ascorbic în raport masic oxid de grafenă : acid ascorbic de 1 : 10 la o temperatură de 80°C timp de 1 oră şi depunerea electrochimică a unui al doilea film de polipirol dintr-o soluţie de 0,1 M paratoluensulfonat de sodiu care conţine 0,1 M pirol şi 20 mM dodecilsulfat de sodiu, prin baleierea potenţialului în domeniul 0...1 V, pentru 30 cicluri.