Description:

Invenţia se referă la un procedeu de realizare, prin microprelucrarea siliciului cu orientarea<111>, a unor structuri micromecanice suspendate (membrane, punţi, console), din material dielectric sau din siliciu monocristalin, cu aplicaţii în microfotonică şi sisteme opto-electro-mecanice. Procedeul conform invenţiei este caracterizat prin aceea că, pentru obţinerea unor structuri suspendate, din material dielectric, membrane, punţi, utilizează corodarea anizotropă a plachetelor de Si (1) în soluţie KOH 25...45%, la T=80°C, precedată de o etapă de corodare izotropă necesară pentru corodarea şanţurilor cu pereţi verticali, în scopul expunerii planurilor {110} corodării anizotrope şi pentru stabilirea adâncimii finale a interstiţiului, realizată într-o soluţie: HF(50%) : 5CH2COOH(100%) : 15HNO3 (70%), la temperatura camerei. Pentru obţinerea structurilor din siliciu monocristalin, utilizează o etapă de precorodare izotropă, realizată în plasmă, la o adâncime egală cu grosimea dorită pentru structura suspendată, urmată de pasivarea pereţilor verticali, o a doua etapă de corodare izotropă, pentru stabilirea adâncimii finale a interstiţiului şi o etapă de corodare anizotropă în soluţie KOH 45%, la T=80°C. ŕ