Description:

Invenţia se referă la un procedeu de realizare a unei microstructuri fotonice de detecţie, cu microcavitate optică pe substrat de siliciu. Procedeul conform invenţiei constă în depuneri de straturi multiple de perechi de SiO2/Au, cu grosimea perechii de lambda/4 sau multiplu de lambda/4, pentru obţinerea reflectorului de tip Bragg pe suprafaţa de incidenţă, şi în corodarea anizotropă a siliciului cu orientare cristalografică <100>, în soluţie de hidroxid de potasiu, în două etape: corodare în soluţie de KOH cu concentraţia de 25%, la temperatura de 80°C, până la o grosime de 100 microni, şi apoi în soluţie de KOH cu concentraţia de 45%, la temperatura de 70°C, până la o grosime de 25 microni, pentru obţinerea microcavităţii optice.